芯片工作原理光刻机_芯片工作原理光刻机

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高端芯片,无需光刻机就能自己“生长”出来传统半导体芯片性能主要取决于多层晶体管的密集堆叠,如今随着新兴的人工智能,发展芯片所需要的成本越发高昂。目前,高端芯片的制作需要使用光刻机,其工作原理是使用一束强光通过类似于定焦摄像头的透镜系统,将光线聚焦在一个晶圆上。晶圆是一种由硅等材料制成的圆形片,上面...

可制造5nm芯片!佳能:纳米压印设备最快今年交付采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标今年或明年出货。去年10月中旬,佳能公司宣布推出基于纳米压印的FPA-1200NZ2C,佳能表示,该设备采用不同于复杂的传统光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。佳能表示,这套设备的工作原理和ASML的光刻机不同,并不利用光学图...

600台,ASML公司宣布新决定,美媒:中企开辟了“新赛道”“EUV光刻机是全人类智慧的结晶,仅凭一个国家的力量,很难造得出来。”一年前,中国院士吴汉明在科技大会上发出了与ASML公司“中国即便是拿到了EUV光刻机图纸,也造不出来”类似的感慨。光刻机是芯片制造过程中必不可少的关键设备,工作原理与照相机差不多,就是利用光源能...